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申请/专利权人：拓自达电线株式会社;株式会社尼德克
申请日：2018-05-29
公开（公告）日：2022-03-29
公开（公告）号：CN110720022B
专利技术分类：.干涉仪[2022.01]
专利摘要：光学相干单元20具备分支光学元件21、合波光学元件23以及至少一个光纤器件22。分支光学元件21将使射出波长随时间进行了扫频的激光分支为测量光和参照光。合波光学元件使参照光与由被测量物反射后的测量光合波并使它们发生干涉。至少一个光纤器件包括参照光用器件22A。将透过参照光用器件后的参照光的从参照光用器件至合波光学元件为止的光路长度设为透过光路长度。将由参照光用器件的脱离部反射后的参照光的从参照光用器件至合波光学元件为止的光路长度设为反射光路长度。在该情况下，透过光路长度为反射光路长度以上。
专利权项：1.一种光学相干单元，其特征在于，具备：分支光学元件，其将使射出波长随时间进行了扫频的激光分支为测量光和参照光；合波光学元件，其使所述参照光与由被测量物反射后的所述测量光合波并使它们发生干涉；以及至少一个光纤器件，其具有脱离部，所述脱离部使通过光纤传导的所述激光从所述光纤的芯暂时脱离到具有与所述芯的折射率不同的折射率的外部后再次向所述芯入射，其中，所述至少一个光纤器件包括参照光用器件，所述参照光用器件为配置于所述分支光学元件与所述合波光学元件之间的所述参照光的光路上的所述光纤器件，透过光路长度和反射光路长度中的所述透过光路长度为所述反射光路长度以上，以减少在干涉信号的整个波形中产生的噪声，所述透过光路长度为透过所述参照光用器件后的所述参照光的从所述参照光用器件至所述合波光学元件为止的光路长度，所述反射光路长度为由所述参照光用器件的所述脱离部反射后的所述参照光的从所述参照光用器件至所述合波光学元件为止的光路长度。
百度查询： 拓自达电线株式会社 株式会社尼德克 光学相干单元和光学相干测量装置
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