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申请/专利权人：株式会社理光
申请日：2021-09-16
公开（公告）日：2022-04-05
公开（公告）号：CN114280057A
专利技术分类：..测试瑕疵、缺陷或污点的存在[2006.01]
专利摘要：本发明涉及涉及检查装置、检查系统、检查方法，其目的是提高检查装置的通用性。检查装置100包括：投影装置200，其根据与检查对象物对应、且用来确定照射到上述检查对象物上的光的图案的图案图像数据，对上述检查对象物照射光；摄像装置300，其拍摄受到所述投影装置照射光的所述检查对象物，并输出拍摄的图像数据。
专利权项：1.一种检查装置，其中具有：投影装置，其根据与检查对象物对应、且用来确定照射到上述检查对象物上的光的图案的图案图像数据，对上述检查对象物照射光；以及摄像装置，其拍摄受到所述投影装置照射光的所述检查对象物，并输出拍摄的图像数据。
百度查询： 株式会社理光 检查装置、检查系统、检查方法
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皖公网安备 34010402703815号