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申请/专利权人：朗姆研究公司
申请日：2020-10-14
公开（公告）日：2022-06-24
公开（公告）号：CN114667600A
专利技术分类：...利用互连在器件中的分离元件间传输电流[2006.01]
专利摘要：用钼Mo填充特征的方法的实施方案包括在包含有开口和内部的特征中沉积第一Mo层，并非保形地处理第一层，使得开口附近的区域比内部的区域被优先处理。在一些实施方案中，第二Mo层沉积于经处理的第一层上。用Mo填充特征的方法的实施方案包括控制Mo前体通量，以在保形与非保形填充之间转变。
专利权项：1.一种方法，其包括：提供衬底，其包括一或更多个特征，所述一或更多个特征中的每一个具有至少一个开口以及能通过所述至少一个开口流体进入的内部区域；在所述一或更多个特征中沉积第一钼层；以及非保形地处理所述第一层，使得所述处理相对于所述第一层的更远地位于所述特征的所述内部区域中的部位而优先施加在所述第一层的位于所述一或更多个特征的所述至少一个开口附近的部位处。
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