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申请/专利权人：株式会社岛津制作所;国立大学法人东京工业大学
申请日：2022-02-22
公开（公告）日：2022-08-30
公开（公告）号：CN114958601A
专利技术分类：
专利摘要：本发明的共培养装置具备：第1密闭容器；配置于第1密闭容器外的共培养器件；配置于第1密闭容器内，贮存有第1培养基的第1培养基源；贮存有溶解氧浓度比第1培养基低的第2培养基的第2培养基源；与共培养器件和第1培养基源连接的第1导管。共培养器件具有：膜，包含第1主面以及位于第1主面的相反侧且用于培养细胞的第2主面；第1流路，配置为一部分由第1主面划分，且供第1培养基流动；第2流路，配置为一部分由第2主面划分，且供第2培养基流动。第1流路的入口与第1导管连接。
专利权项：1.一种共培养装置，其特征在于，具备：共培养器件；第1密封容器，与所述共培养器件连接；第1培养基源，配置于所述第1密闭容器内，用于将第1培养基供给至所述共培养器件；第2培养基源，用于将溶解氧浓度比所述第1培养基低的第2培养基供给至所述共培养器件；第1导管，与所述共培养器件和所述第1培养基源连接，所述共培养器件具有：膜，包含第1主面以及位于所述第1主面的相反侧且用于培养细胞的第2主面；第1流路，配置为一部分由所述第1主面划分，且供所述第1培养基流动；第2流路，配置为一部分由所述第2主面划分，且供所述第2培养基流动，所述第1流路的入口与所述第1导管连接。
百度查询： 株式会社岛津制作所 国立大学法人东京工业大学 共培养装置、共培养系统及共培养方法
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