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解耦装置及解耦方法专利

发布时间:2022-11-10 20:11:25 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 解耦装置及解耦方法

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申请/专利权人:中兴通讯股份有限公司

申请日:2021-05-06

公开(公告)日:2022-11-08

公开(公告)号:CN115313043A

专利技术分类:.减少天线之间耦合的装置;减少天线与其他结构之间耦合的装置(吸收装置入H01Q17/00)[2006.01]

专利摘要:本发明公开了一种解耦装置及解耦方法,在两个E面耦合的天线单元的中间位置的上方设置第一解耦单元,以及在天线单元的上方设置第二解耦单元,通过第一解耦单元和第二解耦单元产生与E面耦合波幅度相等、相位相反的E面散射波,E面散射波和E面耦合波相互抵消,实现E面解耦,同时,第二解耦单元也会产生H面散射波实现H面部分解耦,另外,还在两个H面耦合的天线单元的中间位置的上方设置第三解耦单元,通过第二解耦单元和第三解耦单元共同产生与H面耦合波幅度相等、相位相反的H面散射波,H面散射波和H面耦合波相互抵消,实现E面解耦;通过第一解耦单元、第二解耦单元和第三解耦单元的共同作用,实现天线阵列的E面和H面共同解耦。

专利权项:1.一种解耦装置,应用于天线阵列,所述天线阵列包括多个天线单元,其特征在于,所述解耦装置包括:介质基板,所述介质基板位于所述多个天线单元的上方;第一解耦单元,所述第一解耦单元设置于所述介质基板,每两个E面耦合的所述天线单元的中间位置的上方设置有所述第一解耦单元;第二解耦单元,所述第二解耦单元设置于所述介质基板,每个所述天线单元的上方设置有所述第二解耦单元;第三解耦单元,所述第三解耦单元设置于所述介质基板,每两个H面耦合的所述天线单元的中间位置的上方设置有所述第三解耦单元。

百度查询: 中兴通讯股份有限公司 解耦装置及解耦方法

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