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申请/专利权人:上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日:2021-08-31
公开(公告)日:2023-03-03
公开(公告)号:CN115729059A
专利技术分类:
专利摘要:本发明提供一种对准装置及对准方法。其中,所述对准装置设置有第一偏振调节单元,包括相接的第一波片和第二波片。衍射光或散射光中具有相同衍射级次的正负级衍射分别经过第一波片和第二波片。第一波片的快轴所在方向与所述第二波片的快轴所在方向呈第一夹角,以使任何偏振态的所述衍射光或散射光均可经第一偏振调节单元后形成具有第一偏振方向的第一光束和具有第二偏振方向的第二光束,实现了独立于偏振态的对准测量。基于此,本发明还提供一种对准装置。所述对准装置利用第二偏振调节单元同时处理第五光束和第六光束,消除各探测信号的相位差,降低调制深度下降的风险。
专利权项:1.一种对准装置,其特征在于,包括光照单元、第一偏振调节单元、自参考干涉仪、分光单元、第一探测单元以及第二探测单元;其中,所述光照单元用于提供光照;所述光照经一对准标记后产生衍射光或散射光,所述衍射光或散射光进入所述第一偏振调节单元;所述第一偏振调节单元包括相接的第一波片和第二波片,且所述衍射光或散射光中具有相同衍射级次的负级衍射光和正级衍射光分别经过所述第一波片和所述第二波片;其中,所述第一波片的快轴所在方向与所述第二波片的快轴所在方向呈第一夹角,以使所述衍射光或散射光经所述第一偏振调节单元后形成具有第一偏振方向的第一光束和具有第二偏振方向的第二光束;所述第一光束和所述第二光束进入所述自参考干涉仪;并经所述自参考干涉仪之后,在所述分光单元的反射作用下,部分光束至进入所述第一探测单元,剩余部分光束进入所述第二探测单元;所述第一探测单元和所述第二探测单元分别获取对应光束的光强。
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