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申请/专利权人:哈尔滨工程大学
摘要:本发明公开了一种基于纹影和MIE方法的气液两相流同场测试系统及处理方法,其中,该系统主要包括:两个凹面镜、光源、两个反光镜、两个相机、刀口、分光镜和自动调节装置,其中,在待测定容弹左右两侧预设位置处分别设置两个凹面镜,待测定容弹与左侧凹面镜之间放置分光镜,分光镜上设置自动调节装置,分光镜上方和下方预设位置处分别设置两个相机,待测定容弹右侧斜上方、第二凹面镜左侧斜上方之间设置光源,待测定容弹下端的左侧、上端的右侧分别设置两个反光镜,右侧相机与附近反射镜之间设置刀口。该系统实现同时使用纹影和MIE方法对气液两相流同场进行测试,保证能够准确的采集到同一时刻定容弹内部状况图像,并保证采集图像的精度以及效率。
主权项:1.一种基于纹影和MIE方法的气液两相流同场测试系统,其特征在于,包括:待测定容弹、第一凹面镜、第二凹面镜、光源、第一反光镜、第二反光镜、第一相机、第二相机、刀口、分光镜、自动调节装置和上位机,其中,在所述待测定容弹左右两侧预设位置处分别设置所述第一凹面镜和所述第二凹面镜,所述待测定容弹与所述第一凹面镜之间放置所述分光镜,所述分光镜上设置所述自动调节装置,所述分光镜上方和下方预设位置处分别设置所述第一相机与所述第二相机,所述待测定容弹右侧斜上方、所述第二凹面镜左侧斜上方之间设置所述光源,所述待测定容弹下端的左侧、上端的右侧分别设置所述第一反光镜和所述第二反光镜,所述第二相机与所述第一反光镜之间设置刀口,所述上位机分别与所述第一相机、所述第二相机、所述自动调节装置、所述待测定容弹连接;所述待测定容弹、所述光源、所述第二凹面镜、所述分光镜、所述第二反光镜和所述第二相机构成MIE散射测试结构;所述待测定容弹、所述光源、所述第一凹面镜、所述第二凹面镜、所述分光镜、所述第一反光镜和所述第二反光镜、刀口、第一相机构成纹影测试结构;所述自动调节装置用于将所述分光镜调整至光线通过所述待测定容弹后能够被所述第一相机和所述第二相机同时采集到的位置。
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百度查询: 哈尔滨工程大学 基于纹影和MIE方法的气液两相流同场测试系统及处理方法
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