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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2021-09-02
公开（公告）日：2023-04-25
公开（公告）号：CN116018426A
专利技术分类：..产生反应气流的方法，例如通过母体材料的蒸发或升华[2006.01]
专利摘要：本公开的一个方式的原料供给装置是从溶液或分散体系生成反应性气体的原料供给装置，该溶液是将固体原料溶解于溶剂而得到的溶液，该分散体系是使固体原料分散于分散介质而得到的分散体系，所述原料供给装置具有：容器，其贮存所述溶液或所述分散体系；注入部，其将所述溶液或所述分散体系注入到所述容器内；排气口，其用于所述容器内排气；以及过滤器，其设置于所述容器内，所述过滤器将所述容器内划分为包括设置所述注入部的第一区域和设置所述排气口的第二区域的多个区域。
专利权项：1.一种原料供给装置，从溶液或分散体系生成反应性气体，所述溶液是将固体原料溶解于溶剂而得到的溶液，所述分散体系是使固体原料分散于分散介质而得到的分散体系，所述原料供给装置具有：容器，其贮存所述溶液或所述分散体系；注入部，其将所述溶液或所述分散体系注入到所述容器内；排气口，其用于所述容器内排气；以及过滤器，其设置于所述容器内，所述过滤器将所述容器内划分为包括设置所述注入部的第一区域和设置所述排气口的第二区域的多个区域。
百度查询： 东京毅力科创株式会社 原料供给装置和原料供给方法
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