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申请/专利权人:长鑫存储技术有限公司
申请日:2021-11-15
公开(公告)日:2023-05-16
公开(公告)号:CN116130378A
专利技术分类:.专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置[2006.01]
专利摘要:本发明公开了一种补偿系统及补偿方法,补偿系统,包括:浓度测量装置,用于实时检测回收容器内的待回收液体中不同待测组分的浓度比;控制装置,与浓度测量装置电连接,用于将浓度测量装置检测的浓度比与预设浓度比进行比较,并在浓度比与预设浓度比存在偏差时生成补偿信号;供给装置,与回收容器及控制装置相连接,用于在接收到补偿信号后向回收容器提供反应物,反应物与待测组分反应,以调节待回收液体中不同待测组分的浓度比。本申请提供的补偿系统时刻检测待回收液体中不同待测组分浓度比,对回收容器中待回收液体实时补偿反应物,直至待测组分的浓度比与预设浓度比相等,以确保蚀刻量处于在控制界线范围内并保持稳定,提高晶圆加工良率。
专利权项:1.一种补偿系统,其特征在于,包括:回收容器,所述回收容器用于暂存待回收液体,所述待回收液体中包括至少两种待测组分;浓度测量装置,用于实时检测所述回收容器内的所述待回收液体中不同所述待测组分的浓度比;控制装置,与所述浓度测量装置电连接,用于将所述浓度测量装置检测的所述浓度比与预设浓度比进行比较,并在所述浓度测量装置检测的所述浓度比与预设浓度比存在偏差时生成补偿信号;供给装置,与所述回收容器及所述控制装置相连接,用于在接收到所述补偿信号后向所述回收容器提供反应物,所述反应物与所述待测组分反应,以调节所述待回收液体中不同所述待测组分的浓度比。
百度查询: 长鑫存储技术有限公司 补偿系统及补偿方法
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