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抗霉性基体专利

发布时间:2023-07-03 18:28:40 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 抗霉性基体

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申请/专利权人:揖斐电株式会社

申请日:2018-10-12

公开(公告)日:2023-06-27

公开(公告)号:CN113973843B

专利技术分类:..铜[2006.01]

专利摘要:本发明提供一种抗霉性基体,其特征在于,包含铜化合物和聚合引发剂的粘结剂的固化物固着在基材表面,所述铜化合物的至少一部分从所述粘结剂的固化物的表面露出。

专利权项:1.基体用于抗病毒和或抗霉的应用,其特征在于,所述基体中,包含铜化合物和聚合引发剂的有机粘结剂的固化物固着在基材表面,所述铜化合物的至少一部分从所述有机粘结剂的固化物的表面露出,关于所述铜化合物,利用X射线光电子能谱分析法对处于925eV~955eV的范围的与CuI和CuII相当的结合能进行5分钟测定而计算出的所述铜化合物中包含的CuI和CuII的离子个数的比例CuICuII为0.4~50。

百度查询: 揖斐电株式会社 抗霉性基体

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