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申请/专利权人：光微半导体(吉林)有限公司
摘要：本发明涉及晶圆制造领域，且公开了chuck吸盘下方环形气刀装置，有效的解决了目前在对气刀通气流量进行调节时，通过更换不同厚度垫片来实现，调节效率较低的问题，包括底座，所述底座的下方设有垫片本体，垫片本体的下方设有气刀盖，底座的内部开设有气室，气室贯穿至底座的底端，气室的外侧等角度开设有进气孔，进气孔贯穿至底座的外侧，气刀盖的内壁上安装有导流板，导流板与底座的底壁形成气道，本发明，通过第一电磁铁外接电路上串联滑动变阻器，调节第一电磁铁对第一磁块的斥力，带动移动架移动，使得移动架上的齿条带动螺套转动，继而带动螺杆相对螺套移动，调节底座与气刀盖之间距离，从而方便调节气刀通气流量。
主权项：1.chuck吸盘下方环形气刀装置，包括底座1，其特征在于：所述底座1的下方设有垫片本体2，垫片本体2的下方设有气刀盖3，底座1的内部开设有气室5，气室5贯穿至底座1的底端，气室5的外侧等角度开设有进气孔6，进气孔6贯穿至底座1的外侧，气刀盖3的内壁上安装有导流板7，导流板7与底座1的底壁形成气道8，底座1与气刀盖3之间等角度安装有气道流通调节组件4；气道流通调节组件4包括等角度安装于底座1外侧的上固定块401，上固定块401的一端安装有端部杆402，端部杆402的内部开设有内槽403，内槽403贯穿至端部杆402的底端，气刀盖3的外侧等角度安装有下固定块404，下固定块404位于上固定块401的下方，下固定块404的顶端安装有插杆405，插杆405插入到内槽403的内部。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 光微半导体(吉林)有限公司 chuck吸盘下方环形气刀装置
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