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申请/专利权人：之江实验室
申请日：2023-06-14
公开（公告）日：2023-09-05
公开（公告）号：CN116430510B
专利技术分类：
专利摘要：本申请提供一种光波导和光波导设计方法。光波导包括衬底层、包层、弯曲波导层和沟槽。包层设于衬底层上方。弯曲波导层设于包层内。沟槽刻蚀于包层，沟槽自包层的外表面向衬底层的方向凹陷，在衬底层的延伸方向上，沟槽位于弯曲波导层的外侧。本申请提供的光波导通过在弯曲波导层的外侧的包层上刻蚀沟槽，可以补偿局部波前相速度，扩大辐射焦散半径，有效降低光波导的弯曲损耗，且制作工艺简单，成本较低。
专利权项：1.一种光波导，其特征在于，包括：衬底层；包层，设于所述衬底层上方；弯曲波导层，设于所述包层内；沟槽，刻蚀于所述包层，所述沟槽自所述包层的外表面向所述衬底层的方向凹陷，在所述衬底层的延伸方向上，所述沟槽位于所述弯曲波导层的外侧；其中，所述光波导的弯曲损耗随所述沟槽的刻蚀深度增大而减小，所述光波导的弯曲损耗随所述沟槽的宽度增大而减小，且所述光波导的弯曲损耗随所述沟槽靠近所述弯曲波导层的侧壁与所述弯曲波导层的距离减小而先减小后增加，且所述沟槽的横向截面形状包括矩形或三角形；所述沟槽靠近所述弯曲波导层的侧壁与所述弯曲波导层中心的距离根据以下关系式确定： 其中，为所述包层材料折射率，为模式有效折射率，y为所述沟槽靠近所述弯曲波导层的侧壁与所述弯曲波导层中心的距离，R为所述弯曲波导层的弯曲半径。
百度查询： 之江实验室 光波导和光波导设计方法
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