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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社
申请日:2021-12-15
公开(公告)日:2023-09-19
公开(公告)号:CN116783688A
专利技术分类:.......等离子腐蚀;活性离子腐蚀[2006.01]
专利摘要:本发明提供一种参数导出装置、参数导出方法和参数导出程序,其使用形状模拟器,导出模拟参数的全局性最佳解。参数导出装置包括:生成部,用于生成表示在相同处理条件下处理的基板的处理前形状的数据和表示处理后形状的数据的多个组合,在所述多个组合中,表示处理前或处理后的任意一者的形状的数据不同于其他组合的表示处理前或处理后的形状的数据;以及导出部,用于导出使表示所预测的处理后的形状的数据与表示对应的处理后的形状的数据的各差分值的总和最小的、形状模拟器的模拟参数的值,所述所预测的处理后的形状是通过将所述多个组合中包含的表示各自处理前的形状的数据输入到所述形状模拟器中来预测的。
专利权项:1.一种参数导出装置,包括:生成部,用于生成表示在相同处理条件下处理的基板的处理前的形状的数据和表示处理后的形状的数据的多个组合,在所述多个组合中,表示处理前或处理后的任意一者的形状的数据不同于其他组合的表示处理前或处理后的形状的数据;以及导出部,用于导出使表示所预测的处理后的形状的数据与表示对应的处理后的形状的数据的各差分值的总和最小的、形状模拟器的模拟参数的值,所述所预测的处理后的形状是通过将所述多个组合中包含的表示各自处理前的形状的数据输入到所述形状模拟器中来预测的。
百度查询: 东京毅力科创株式会社 参数导出装置、参数导出方法和参数导出程序
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