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申请/专利权人:珠海中科先进技术研究院有限公司;深圳市森泰金属技术有限公司;珠海罗西尼表业有限公司
摘要:本发明属于镀膜工艺技技术领域,提供了一种复合磁控溅射工艺制备高耐腐蚀TiNTiCN膜层的方法。本发明采用了复合磁控溅射设备,将第一Ti靶和第二Ti靶分别与高压脉冲电源、中频磁控溅射电源连接,在真空室中进行镀膜的操作,在保护气体中,先开启中频磁控溅射电源并沉积Ti层,然后通入N2并开启高压脉冲电源以沉积TiN层,再同时通入N2和C2H2,沉积TiCN层,最终制得TiNTiCN膜层。本发明提供的方法不仅具有金属离化率高的优势,而且沉积速率快,提高了膜层的沉积效率,所制得的TiNTiCN复合膜层具有高耐腐蚀性能,且膜层和基材的结合力强度高。
主权项:1.一种复合磁控溅射工艺制备高耐腐蚀TiNTiCN膜层的方法,其特征在于,包括如下步骤:1采用复合磁控溅射设备,所述复合磁控溅射设备包括高压脉冲电源、中频磁控溅射电源、偏压电源、Ti靶、真空室,所述Ti靶包括第一Ti靶和第二Ti靶;将第一Ti靶和第二Ti靶置于真空室中,将第一Ti靶与高压脉冲电源的输出端连接,将第二Ti靶与中频磁控溅射电源的输出端连接;2取基材,置于真空室中;3真空室抽真空;4开启偏压电源,同时充入保护气体;5开启中频磁控溅射电源,沉积Ti层;6通入N2,开启高压脉冲电源,沉积TiN层;7同时通入N2和C2H2,沉积TiCN层,制得所述TiNTiCN膜层。
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