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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2022-04-28
公开（公告）日：2023-12-26
公开（公告）号：CN117296122A
专利技术分类：..带有扫描射束的[2006.01]
专利摘要：公开了评估系统和方法。在一种布置中，带电粒子在以多射束布置的子射束中朝向样品引导。多个控制电极限定控制透镜阵列。控制透镜阵列中的每个控制透镜与多射束的相应子射束的子射束路径对准，并且被配置为对相应子射束进行操作。多个物镜电极限定将子射束引导到样品上的物镜阵列。物镜与子射束路径对准，该子射束路径与相应控制透镜对准。通过向控制电极和物镜电极施加对应电位，针对多射束的子射束实施可选择着陆能量。控制器被配置为选择对应电位，使得系统的图像平面与所有控制电极和物镜电极之间的空间关系对于每个可选择着陆能量是相同的。
专利权项：1.一种评估系统，被配置为将以多射束布置的子射束中的带电粒子朝向样品引导，所述系统包括：多个控制电极，限定控制透镜阵列，所述控制透镜阵列中的每个控制透镜与所述多射束的相应子射束的子射束路径对准，并且被配置为对所述相应子射束进行操作；多个物镜电极，限定物镜阵列，所述物镜阵列被配置为将所述子射束引导到样品上，所述物镜阵列中的每个物镜与子射束路径对准，所述子射束路径与相应控制透镜对准；以及控制器，被配置为通过向所述控制电极和所述物镜电极施加对应电位来针对所述多射束的子射束实施多个可选择着陆能量，其中所述控制器被配置为选择所述对应电位，使得所述系统的图像平面与所有所述控制电极和物镜电极之间的空间关系对于所述可选择着陆能量中的每一者是相同的。
百度查询： ASML荷兰有限公司 评估系统和评估方法
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