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申请/专利权人：上海御微半导体技术有限公司
申请日：2023-11-10
公开（公告）日：2024-02-09
公开（公告）号：CN117542789A
专利技术分类：...使用机械装置的，例如卡盘、夹具或夹子[2006.01]
专利摘要：本发明属于半导体设备技术领域，公开了一种垂直度调整装置及垂直度调整方法。该垂直度调整装置包括第一调整环和第二调整环，第一调整环和第二调整环均具有相对设置的第一表面和第二表面，第一表面为倾斜面，第一调整环的第一表面和第二调整环的第一表面相互贴合，且第一调整环和第二调整环能相对转动，第一调整环和第二调整环的侧面均设置有多个间隔设置的计量部。本发明提供的垂直度调整方法采用上述的垂直度调整装置。本发明提供的垂直度调整装置，通过转动第一调整环和第二调整环，使贴合后的第一调整环的第二表面和第二调整环的第二表面之间产生倾角，即补偿角，以此来补偿结构的垂直度偏差，操作便捷，可靠性强。
专利权项：1.垂直度调整装置，其特征在于，包括：第一调整环100和第二调整环200，所述第一调整环100和所述第二调整环200均具有相对设置的第一表面110和第二表面120，所述第一表面110为倾斜面，所述第一调整环100的第一表面110和所述第二调整环200的第一表面相互贴合，且所述第一调整环100和所述第二调整环200能相对转动，所述第一调整环100和所述第二调整环200的侧面均设置有多个间隔设置的计量部130。
百度查询： 上海御微半导体技术有限公司 垂直度调整装置及垂直度调整方法
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