龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：铠侠股份有限公司
申请日：2023-02-28
公开（公告）日：2024-03-19
公开（公告）号：CN117721440A
专利技术分类：..仅沉积碳[2006.01]
专利摘要：本发明公开了一种目标处理方法，包括：将目标移入处理室中；使用包括碳的第一离子和包括碳的第一等离子体中的至少一者在目标上形成包括碳的膜；以及通过第二等离子体与膜之间的反应去除膜，其中，在不从处理室去除目标的情况下，在处理室中交替地多次执行膜的形成和膜的去除。
专利权项：1.一种目标处理方法，包括：将目标移入处理室中；使用包括碳的第一离子和包括碳的第一等离子体中的至少一者在所述目标上形成包括碳的膜；以及通过第二等离子体与所述膜之间的反应去除所述膜，其中，在不从所述处理室去除所述目标的情况下，在所述处理室中交替地多次执行所述膜的形成和所述膜的去除。
百度查询： 铠侠股份有限公司 目标处理设备和目标处理方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号