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申请/专利权人:中国科学院微电子研究所
摘要:本申请公开一种生成缺陷掩模样本的方法、装置和电子设备,涉及图像处理技术领域。方法包括:基于预设软件所设计的掩模板生成带缺陷的掩模版图设计文件;获取所述掩模版图设计文件对应的实际掩模板图像;将所述掩模版图设计文件和所述实际掩模板图像经过深度学习网络算法训练确定生成掩模样本的目标最佳网络参数,得到目标图像处理网络模型;在接收到最新掩模版图设计文件时,通过所述目标图像处理网络模型生成对应的目标缺陷掩模样本图像。解决了掩模检测中实际图像样本难以获取且价格昂贵的问题,有助于更好的实现掩模缺陷的提取与识别算法。该方法对反射式掩模板的颗粒检测的样本集获取同样适用。
主权项:1.一种生成缺陷掩模样本的方法,其特征在于,所述方法包括:基于预设软件所设计的掩模板生成带缺陷的掩模版图设计文件;获取所述掩模版图设计文件对应的实际掩模板图像;将所述掩模版图设计文件和所述实际掩模板图像经过深度学习网络算法训练确定生成掩模样本的目标最佳网络参数,得到目标图像处理网络模型;在接收到最新掩模版图设计文件时,通过所述目标图像处理网络模型生成对应的目标缺陷掩模样本图像。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 中国科学院微电子研究所 一种生成缺陷掩模样本的方法、装置和电子设备
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