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申请/专利权人：深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要：本发明公开了一种改善PVD面底色差的镀膜工艺，包括以下步骤：S1、将工件放置在转架上，并在转架的两端均安装有一对Ti靶，转架采用公转模式在镀膜室内转动，继续向镀膜室内通入Ar，使得气压达到0.3~0.5Pa，偏压‑60~‑40V，采用磁控溅射技术在工件上溅射纯Ti层；S2、向镀膜室中通入N2，使得气压在0.3~0.5Pa之间，同时开启Ti靶，沉积TiAlN涂层；S3、向镀膜室中通入O2，使得气压在0.3~0.5Pa之间，同时开启Ti靶，沉积TiO涂层，完成镀膜。本发明将工件正反两面的镀膜过程分隔开，互不干扰，达到降低镀膜工件色差、提高工件质量的效果。
主权项：1.一种改善PVD面底色差的镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1、将工件放置在转架上，并在转架的两端均安装有一对Ti靶，转架采用公转模式在镀膜室内转动，继续向镀膜室内通入Ar，使得气压达到0.3~0.5Pa，偏压-60~-40V，采用磁控溅射技术在工件上溅射纯Ti层；S2、向镀膜室中通入N2，使得气压在0.3~0.5Pa之间，同时开启Ti靶，沉积TiAlN涂层；S3、向镀膜室中通入O2，使得气压在0.3~0.5Pa之间，同时开启Ti靶，沉积TiO涂层，完成镀膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳森丰真空镀膜有限公司 一种改善PVD面底色差的镀膜工艺
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