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申请/专利权人：江苏大学
摘要：本发明公开了一种熔点相差较大的异种材料的交替激光沉积制造方法，属于异种金属材料的激光增材制造技术领域。所述交替激光沉积制造方法包括以下步骤：在基板上交替激光沉积高熔点材料和低熔点材料，得到交替异种材料；在所述高熔点材料上激光沉积低熔点材料时，采用负离焦激光沉积方式；在所述低熔点材料上激光沉积高熔点材料时，采用正离焦激光沉积方式。本发明通过正负离焦的变离焦量方式，解决了因熔点相差较大的异种材料界面的未熔或过熔而导致的界面结合问题，有效提升了高低熔点交替异种金属材料构件的综合力学性能，实现了熔点相差较大的异种材料的高质量交替激光沉积制造。
主权项：1.一种熔点相差较大的异种材料的交替激光沉积制造方法，其特征在于，包括以下步骤：在基板上交替激光沉积高熔点材料和低熔点材料，得到交替异种材料；在所述高熔点材料上激光沉积低熔点材料时，采用负离焦激光沉积方式；在所述低熔点材料上激光沉积高熔点材料时，采用正离焦激光沉积方式；所述负离焦激光沉积是指激光焦点与待沉积基体表面的距离＜0；所述正离焦激光沉积是指激光焦点与待沉积基体表面的距离＞0；所述高熔点材料与低熔点材料之间的熔点差值≥700℃；所述负离焦激光沉积和正离焦激光沉积的离焦量的计算方法为：首先，根据激光能量密度公式和低熔点材料或高熔点材料的最大成形激光能量密度计算低熔点材料或高熔点材料的最小激光光斑半径，根据所述激光能量密度公式和低熔点材料或高熔点材料的最小成形激光能量密度计算低熔点材料或高熔点材料的最大激光光斑半径，得到激光光斑半径范围，其中，P为激光功率，r为低熔点材料或高熔点材料的激光光斑半径，V为扫描速度；然后在所述激光光斑半径范围内选取一个数值作为低熔点材料或高熔点材料激光沉积过程中的激光光斑半径，并根据离焦量公式和选取的激光光斑半径计算低熔点材料或高熔点材料的离焦量的绝对值，其中，r0为激光器的最小激光光斑半径，λ为激光器的激光波长；所述正离焦激光沉积的离焦量用正数表示，所述负离焦激光沉积的离焦量用负数表示。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏大学 一种熔点相差较大的异种材料的交替激光沉积制造方法
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