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表面处理剂 

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申请/专利权人:大金工业株式会社

摘要:本发明提供一种下述式1或2式中,各符号的含义与说明书中的记载相同。所示的化合物。RF1‑XA‑XBRSinRAcm1RAcmRSinXB‑XA‑RF2‑XA‑XBRSinRAcm2。

主权项:1.一种下述式1或2所示的化合物,其特征在于:RF1-XA-XBRSinRAcm1RAcmRSinXB-XA-RF2-XA-XBRSinRAcm2式1和2中:RF1为Rf1-RF-Oq-,RF2为-Rf2p-RF-Oq-,Rf1为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-16烷基,Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-6亚烷基,RF分别独立地为二价的氟代聚醚基,p为0或1,q分别独立地为0或1,XA分别独立地为单键或二价的有机基团,XB分别独立地为不含Si原子的碳原子数1~10的m+n+1价的基团,RSi在每次出现时分别独立地为-XC-SiR1n’R23-n’,XC为碳原子数1~10的二价的有机基团,R1在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团,R2在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团,n’为1~3的整数,RAc在每次出现时分别独立地为-XD-XE-XF-OCO-CR5=CH2m’,XD为单键或二价的有机基团,XE为单键或m’+1价的基团,XF在每次出现时分别独立地为单键或二价的有机基团,R5为氢原子、卤原子或碳原子数1~8的一价的有机基团,m’为1~10的整数,n分别独立地为1~10的整数,m分别独立地为1~10的整数。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 大金工业株式会社 表面处理剂

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