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一种基于正交回转轴系的凸面光栅机械刻划系统及方法 

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申请/专利权人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

摘要:本发明涉及机械光栅刻划技术领域,具体涉及一种基于正交回转轴系的凸面光栅机械刻划系统及方法,刻划系统包括刻划轨迹规划机构和刻划运动执行机构,刻划轨迹规划机构包括分度运动机构、刻划运动机构和刻划承载台,刻划运动机构与分度运动机构共同组成正交回转轴系,刻划承载台上设有校正调节机构,光栅基底位于校正调节机构上,刻划运动执行机构包括刀架承载台和对刀位移台,刻划时,刻划刀具对光栅基底进行单向挤压刻划。刻划方法包括:S1、进行光栅基底刻划前的装调准备工作;S2、在光栅基底上进行机械刻划。本发明可实现大口径、小闪耀角、高槽形精度的凸面光栅机械刻划。

主权项:1.一种基于正交回转轴系的凸面光栅机械刻划系统,其特征在于,包括刻划轨迹规划机构和刻划运动执行机构(7);所述刻划轨迹规划机构包括分度运动机构(1)、刻划运动机构(2)和刻划承载台(3),刻划运动机构(2)连接于分度运动机构(1)上,刻划运动机构(2)的轴线与分度运动机构(1)的轴线相垂直,刻划运动机构(2)与分度运动机构(1)共同组成正交回转轴系;刻划承载台(3)连接于刻划运动机构(2)上;刻划承载台(3)上设有校正调节机构(4)且光栅基底(5)放置于校正调节机构(4)上,光栅基底(5)由分度运动机构(1)带动沿光栅周期方向运动、由刻划运动机构(2)带动沿光栅刻线方向运动;所述刻划运动执行机构(7)包括刀架承载台(8)和滑动位于刀架承载台(8)上的对刀位移台(9),对刀位移台(9)上设有用以支撑刻划刀具(31)的刀架支撑机构(10)和用以驱动刀架支撑机构(10)伸缩以实现刻划刀具(31)抬刀落刀动作的抬落刀驱动机构(11);刻划时,刻划刀具(31)对光栅基底(5)进行单向挤压刻划。

全文数据:

权利要求:

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