买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
申请/专利权人:沈阳芯源微电子设备股份有限公司
摘要:本发明公开了一种高粘度光阻渐变recipe构架对膜厚控制方法,属于集成电路制造行业光刻工艺技术领域。本发明采用特定recipe构架解决了高粘度感光高分子材料在短时间无法融合问题,从而解决了高粘度感光高分子材料在涂覆时,由于液体浪涌效应作用导致的,高分子膜呈现浪涌固化的问题。本发明适用于60cp及以上粘度光刻胶,其计算转换方便,调整控制度高,对人员经验要求低。
主权项:1.一种高粘度光阻渐变recipe构架对膜厚控制方法,其特征在于:该方法具体包括如下步骤:A晶圆置于承片台上旋转时涂布光刻胶稀释剂RRC;B晶圆置于承片台上旋转时涂布高分子材料光刻胶;C晶圆置于承片台上旋转时成膜厚度调整。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种高粘度光阻渐变recipe构架对膜厚控制方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。