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一种气相生长制备枝杈状CsPbBr3纳米晶薄膜的方法 

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申请/专利权人:西安交通大学

摘要:本发明公开了一种气相生长制备枝杈状CsPbBr3纳米晶薄膜的方法,首先通过反溶剂法制备出作为前驱体的CsPbBr3单晶,然后将其置于管式炉的加热区,同时将衬底置于载气下游,加热区间外的冷却区域,待管式炉温度稳定后将衬底推入加热管中,并且保持距离前驱体12~15cm的位置,然后维持管内温度继续反应,制得枝杈状CsPbBr3纳米晶薄膜。本发明制备得到的枝杈状CsPbBr3纳米晶薄膜中CsPbBr3为立方相,相比传统液相方法,没有分相问题,无有机配体使用,理论上具有更高的比表面积,同时该枝杈状CsPbBr3纳米薄膜还具有较好的稳定性,可放置于空气中1个月以上,保留原XRD峰不变。

主权项:1.一种气相生长制备枝杈状立方相CsPbBr3纳米晶薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:1)制备CsPbBr3单晶,作为前驱体备用;制备CsPbBr3单晶时将摩尔比为1:1的CsBr和PbBr2溶解于DMSO中,通过反溶剂法制备得到CsPbBr3单晶;2)将步骤1)制得的前驱体粉碎后置于管式炉的加热区,将衬底置于管式加热炉的载气下游、加热区外的冷却区,然后将管式炉升温至350~400℃,稳定1分钟;管式炉中的载气为Ar气,载气压力为100mTorr,载气流速为18sccm;3)将衬底推入管式炉的加热管中,距离前驱体12~15cm的位置,使气态前驱体能够沉积到衬底上,维持管式炉温度为350~400℃,反应1~4小时,自然冷却降温,制得枝杈状立方相CsPbBr3纳米晶薄膜。

全文数据:

权利要求:

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