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申请/专利权人：安徽纬科材料科技有限公司
摘要：一种基于金属靶材制作钙钛矿薄膜的方法，包括：准备工作，包括：基底清洗、靶材准备与磁控溅射设备初始化；制备钙钛矿薄膜，包括：启动磁控溅射设备，进行磁控溅射沉积；以及根据激子峰的峰值强度与激子峰的宽度，控制磁控溅射设备的溅射时间；钙钛矿薄膜的退火处理，包括：基底转移与钙钛矿薄膜退火；以及根据激子峰的峰值强度与激子峰的宽度，控制退火炉的退火时间。本发明创造性的利用激子峰作为钙钛矿薄膜的表征。激子峰的强度与宽度反映了薄膜的光学活性和载流子复合效率，间接表征了薄膜的诸多性能参数。
主权项：1.一种基于金属靶材制作钙钛矿薄膜的方法，其特征在于，包括步骤1~步骤3；步骤1，准备工作，包括：基底清洗、靶材准备与磁控溅射设备初始化；步骤2，制备钙钛矿薄膜，包括：启动磁控溅射设备，进行磁控溅射沉积；以及根据激子峰的峰值强度与激子峰的宽度，控制磁控溅射设备的溅射时间；步骤3，钙钛矿薄膜的退火处理，包括：基底转移与钙钛矿薄膜退火；以及根据激子峰的峰值强度与激子峰的宽度，控制退火炉的退火时间。
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