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申请/专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
摘要：本申请提供一种改善光掩模注记差的方法及系统，应用于光掩模的应用技术领域，其中，包括如下步骤：填充图形添加步骤：在光掩模注记差量测图形周围添加预设密度的填充图形；注记差量测步骤：使用添加填充图形的注记差量测图形对光掩模进行量测注记差。本申请在光掩模的注记差量测图案周围添加了合适密度的填充图形，减少了周围图形密度的不均匀性，降低了密度变化对注记差量测图案的影响，使得量测结果更符合光掩模实际情况，提高光掩模注记差的精度，从而提高芯片的生产制造良率。
主权项：1.一种改善光掩模注记差的方法，其特征在于，包括如下步骤：填充图形添加步骤：在光掩模注记差量测图形周围添加预设密度的填充图形；注记差量测步骤：使用添加填充图形的注记差量测图形对光掩模进行量测注记差。
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权利要求：
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