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掩膜版及其制作方法 

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申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司

摘要:本发明提出了掩膜版及其制作方法。所述掩膜版包括:金属框架主体,所述金属框架主体具有多个第一镂空区域;粘性框架,所述粘性框架设置在所述金属框架主体的一侧,所述粘性框架具有多个第二镂空区域,所述第二镂空区域在所述金属框架主体上的正投影覆盖所述第一镂空区域。由此,通过在金属框架主体的一侧设置粘性框架,可以提高掩膜版蒸镀面的粘性,在使用该掩膜版进行蒸镀过程中,附着在粘性框架表面的蒸镀材料与粘性框架的粘结强度较高,使得蒸镀材料不易脱落,从而降低掩膜版的清洗频率,有利于减少备用掩膜版的数量,有利于提高产品良率、降低生产运营成本。

主权项:1.一种掩膜版,其特征在于,包括:金属框架主体,所述金属框架主体具有多个第一镂空区域;粘性框架,所述粘性框架设置在所述金属框架主体的一侧,所述粘性框架具有多个第二镂空区域,所述第二镂空区域在所述金属框架主体上的正投影覆盖所述第一镂空区域。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 京东方科技集团股份有限公司 成都京东方光电科技有限公司 掩膜版及其制作方法

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