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一种Gemini型吡咯烷酮表面活性剂及其在硅蚀刻液中的应用 

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申请/专利权人:福州大学

摘要:本发明公开了一种Gemini型吡咯烷酮表面活性剂及其制备方法和在制备四甲基氢氧化铵硅蚀刻液中的应用,属于表面活性剂和蚀刻液技术领域。Gemini型吡咯烷酮表面活性剂与传统的单体表面活性剂相比,有着反应产率较高和临界胶束浓度较低等特点,将其与四甲基氢氧化铵水溶液复配得到硅蚀刻液,具有表面张力低、润湿能力强、杂质金属离子含量少、有效控制氢气气泡、改善硅片表面粗糙度、蚀刻效果优异的特点,应用前景广阔。

主权项:1.一种Gemini型吡咯烷酮表面活性剂的制备方法,其特征在于:将N-烷基-吡咯烷酮溶解于溶剂中,滴加二元羧酸,于油浴中回流冷凝,磁力搅拌反应,减压旋蒸,得到所述的Gemini型吡咯烷酮表面活性剂。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 福州大学 一种Gemini型吡咯烷酮表面活性剂及其在硅蚀刻液中的应用

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