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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供基片处理方法和基片处理装置。实施方式的基片处理方法包括：生成步骤，其将基片处理的方案信息和基片处理的控制对象的控制值信息以按每个方案信息生成一个记录的方式生成记录；存储记录的存储步骤；在进行基片处理时获取方案信息的获取步骤；读取步骤，其读取存储有与所获取的方案信息相同的方案信息的记录；和控制步骤，其基于所读取的记录的方案信息中的控制值信息来控制控制对象。本发明能够稳定地持续进行基片处理。
主权项：1.一种基片处理方法，其特征在于，具有：生成步骤，其将基片处理的方案信息和所述基片处理的控制对象的控制值信息以按每个所述方案信息生成一个记录的方式生成记录；存储所述记录的存储步骤；在进行基片处理时获取方案信息的获取步骤；读取步骤，其读取存储有与所获取的所述方案信息相同的方案信息的所述记录；反馈控制步骤，其在检测基片处理状态的传感器没有发生异常的情况下，基于由所述传感器检测到的值和所获取的所述方案信息来对所述控制对象进行反馈控制；控制步骤，其在所述传感器发生了异常的情况下，基于所读取的所述记录的所述方案信息中的所述控制值信息来控制所述控制对象；和在通过利用所述反馈控制对所有所述控制对象进行控制而所述基片处理正常结束了的情况下，生成、存储登记有正确的控制值信息的记录，或者用正确的控制值信息来更新登记于所述记录的控制值信息的步骤。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理方法和基片处理装置
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