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申请/专利权人：上海华力微电子有限公司
摘要：本发明提供一种透射电子显微镜样品的制备方法，先沿基底的第二表面对基底进行刻蚀，以形成贯穿基底的开口，并利用剩余的基底构成支撑结构，支撑结构围绕开口设置；然后，沿第一保护层的表面及开口的内壁向靠近第二表面的方向，对待测样品进行减薄处理，直至暴露出所述目标膜层，剩余的所述待测样品构成透射电子显微镜样品；由于在对待测样品进行减薄处理之前形成了支撑结构，由此在减薄处理的过程中，支撑结构可以起到支撑的作用，使得待测样品不会发生形变，由此避免透射电子显微镜样品在制备过程中发生形变，提高透射电子显微镜样品的制样成功率。
主权项：1.一种透射电子显微镜样品的制备方法，其特征在于，包括：提供一待测样品，所述待测样品包括基底，所述基底包括相互垂直的第一表面和第二表面，所述第一表面形成有目标膜层和第一保护层，所述第一保护层覆盖所述目标膜层，所述目标膜层覆盖所述第一表面；将所述待测样品固定于样品载体上；沿所述第二表面对所述基底进行刻蚀，以形成贯穿所述基底的开口，剩余的所述基底围绕所述开口并构成支撑结构；以及，沿所述第一保护层的表面及所述开口的内壁向靠近所述目标膜层的方向，对所述待测样品进行减薄处理，直至暴露出所述目标膜层，剩余的所述待测样品构成透射电子显微镜样品。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华力微电子有限公司 透射电子显微镜样品的制备方法
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