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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供提高生产率的成膜装置和成膜方法。成膜装置对基板进行ALD成膜，具备处理腔室，其具有：旋转滚筒，将基板保持于与旋转轴线平行的保持侧面；主体部，收纳旋转滚筒，具有：多个处理室，与保持侧面相对，具有与旋转轴线平行的方向成为长度方向的长条状的处理空间；排气部，配置到多个处理室的各个之间，多个处理室至少包括：原料气体吸附室，使原料气体吸附于基板；等离子体反应室，从反应气体生成与原料气体反应的等离子体，具备：框体；长条状的金属窗，由与保持侧面相对且在等离子体反应室的长度方向以第1间隔配置成直线状的多个分割窗构成，配置为在沿着长度方向延伸的边上以与框体之间具有比第1间隔宽的第2间隔；矩形线圈天线。
主权项：1.一种成膜装置，其是对基板进行ALD成膜的成膜装置，具备处理腔室，其特征在于，该处理腔室具有：旋转滚筒，其用于将所述基板保持于与旋转轴线平行的保持侧面；和主体部，其用于收纳所述旋转滚筒，所述主体部具有：多个处理室，其与所述保持侧面相对，具有与所述旋转轴线平行的方向成为长度方向的长条状的处理空间；和排气部，其配置到所述多个处理室的各处理室之间，所述多个处理室至少包括：原料气体吸附室，在该原料气体吸附室中，使原料气体吸附于所述基板；和等离子体反应室，在该等离子体反应室中，从反应气体生成与吸附到所述基板的所述原料气体反应的等离子体，所述等离子体反应室具备：框体，其设置到所述等离子体反应室的侧壁的上部；长条状的金属窗，其由多个分割窗构成，该多个分割窗与所述保持侧面相对，在所述等离子体反应室的长度方向以第1间隔配置成直线状，该长条状的金属窗配置为在沿着所述长度方向延伸的边上与所述框体之间具有比所述第1间隔宽的第2间隔；以及纵卷矩形线圈天线，其与所述分割窗分别相对应地配置于所述等离子体反应室的外侧，具有与所述分割窗相对的平面部，多个所述平面部形成通用的平面区域，所述纵卷矩形线圈天线是绕如下的卷绕轴线卷绕天线用线而构成的，所述卷绕轴线与所述分割窗平行且与所述金属窗的长度方向正交。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 成膜装置和成膜方法
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