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申请/专利权人：上海积塔半导体有限公司
摘要：本申请提供一种反应室头部保湿装置，应用于半导体制造设备技术领域，所述反应室头部保湿装置包括：基座和连接在基座上方的防外溅部件；基座设置在初始点位的下方，基座设有开孔，其中开孔用于通过水路，初始点位为反应室头部作业完成之后进行保湿的位置；防外溅部件的底部设有喷水组件，防外溅部件的上部包围钻石碟，喷水组件与所述水路连接，整体结构简单，所需零部件少，管路走向简单，非常方便根据保湿位置需要进行安装的部署应用，而且可以有效地防止保湿水溅到其他位置侧门板，研磨盘等，从而避免造成泄露、对抛光液造成污染影响研磨形貌及刮伤，有利于提升晶圆加工的品质，减少晶圆的报废率，从而达到了降本增效的生产目的。
主权项：1.一种反应室头部保湿装置，其特征在于，包括：基座和连接在基座上方的防外溅部件；所述基座设置在初始点位的下方，所述基座设有开孔，其中所述开孔用于通过水路，所述初始点位为反应室头部作业完成之后进行保湿的位置；所述防外溅部件的底部设有喷水组件，所述防外溅部件的上部包围钻石碟，所述喷水组件与所述水路连接。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海积塔半导体有限公司 一种反应室头部保湿装置
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