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申请/专利权人：瑞昱半导体股份有限公司
申请日：2023-02-07
公开（公告）日：2024-08-09
公开（公告）号：CN118470762A
专利技术分类：..人脸，例如 面部部分、草图或表情[2022.01]
专利摘要：本公开涉及侦测系统以及侦测方法。本发明提供一种侦测系统以及侦测方法。侦测方法包含：由角度取得模组接收包含脸部的影像，并且基于前述影像获得脸部的第一角度、第二角度以及第三角度；由投影计算模组基于第一角度、第二角度以及第三角度获得第一投影量以及第二投影量；以及由信心度计算模组执行：基于第一修正量对第一投影量进行幂运算以获得第三值；基于第二修正量对第二投影量进行幂运算以获得第四值；以及基于第三值与第四值获得一个信心度。
专利权项：1.一种侦测系统，包含：一角度取得模组，经配置以接收包含一脸部的一影像，并且基于该影像获得该脸部的一第一角度、一第二角度以及一第三角度；一投影计算模组，经配置以基于该第一角度、该第二角度以及该第三角度获得一第一投影量以及一第二投影量；以及一信心度计算模组，经配置以执行：基于一第一修正量对该第一投影量进行一幂运算以获得一第三值；基于一第二修正量对该第二投影量进行该幂运算以获得一第四值；以及基于该第三值与该第四值获得一信心度。
百度查询： 瑞昱半导体股份有限公司 侦测系统以及侦测方法
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