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大曲率深矢高多层膜均匀性设计方法、设备及介质 

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申请/专利权人:天津津航技术物理研究所

摘要:本申请公开了一种大曲率深矢高多层膜均匀性设计方法、设备及介质,涉及光学薄膜技术领域,所述设计方法包括:将目标光学元件的表面划分为多个数据网格点;根据工艺需求并结合插值函数,获取每个数据网格点所对应的第一光学常数、第二光学常数以及第一物理厚度,以得到第一光学常数分布数据、第二光学常数分布数据以及第一物理厚度分布数据;设定第一基本膜系结构以及与其对应的膜系结构参数,得到第一膜层结构;基于第一膜层结构和前述所有分布数据以及预设工艺指标要求,利用遗传算法得到最终的膜系结构。该方法结合多影响因素通过综合、全面调整得到的最终的膜系结构,使得膜系结构的均匀性更优。

主权项:1.一种大曲率深矢高多层膜均匀性设计方法,其特征在于,包括:将目标光学元件的表面划分为多个数据网格点;根据工艺需求并结合插值函数,获取每个数据网格点所对应的第一光学常数、第二光学常数以及第一物理厚度,以得到第一光学常数分布数据、第二光学常数分布数据以及第一物理厚度分布数据;设定第一基本膜系结构以及与其对应的膜系结构参数,得到第一膜层结构;所述膜系结构参数至少包括:初始膜层周期参数、第一基本膜系结构中各层薄膜的物理厚度;基于所述第一膜层结构、所述第一光学常数分布数据、所述第二光学常数分布数据、所述第一物理厚度分布数据以及预设工艺指标要求,利用遗传算法得到目标膜层周期参数以及各层薄膜的目标物理厚度,进而得到最终的膜系结构。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 天津津航技术物理研究所 大曲率深矢高多层膜均匀性设计方法、设备及介质

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