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申请/专利权人：霓达株式会社
申请日：2022-09-15
公开（公告）日：2024-08-02
公开（公告）号：CN118434456A
专利技术分类：..测试消毒有效性和完整性的装置，例如颜色变化指示器（酶学或微生物学的装置入C12M1/34）[2006.01]
专利摘要：去污强度传感器用于检测被过氧乙酸去除的微生物和病毒中的至少一者的去除程度，其包含暴露部，该暴露部由能够被所述过氧乙酸腐蚀的金属构成，并且所述金属暴露。
专利权项：1.一种去污强度传感器，其用于检测被过氧乙酸去除的微生物和病毒中的至少一者的去除程度，所述去污强度传感器的特征在于：包含暴露部，该暴露部由能够被所述过氧乙酸腐蚀的金属构成，并且所述金属暴露。
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