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一种将金属离子配位物高效负载于四硫键桥联的介孔二氧化硅的限域配位合成法 

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申请/专利权人:云南省肿瘤医院(昆明医科大学第三附属医院);厦门大学

摘要:本发明公开了一种将金属离子配位物高效负载于四硫键桥联的介孔二氧化硅的限域配位合成法,通过先将载体四硫键桥联的介孔二氧化硅与金属离子通过四硫键的高度亲和作用发生高效配位,之后再加入有机配体使其与金属离子在载体中的树枝状孔道中发生原位限域配位的方法获得普适多种金属离子的金属纳米颗粒。该方法具有普适性和可重复性,可推广应用至其他多种金属,且该方法的负载效率更高,产物纯度更高。

主权项:1.一种将金属离子配位物高效负载于四硫键桥联的介孔二氧化硅的限域配位合成法,其特征在于,包括以下步骤:1将合成的四硫键桥联的树枝状介孔二氧化硅DTSPO,于无水乙醇中超声分散并匀速搅拌得到溶液A;2将金属盐于无水乙醇中超声分散后加入到溶液A中持续搅拌得到溶液B;3将金属盐12物质的量的有机配体溶解于无水乙醇中,超声充分分散后,加入到溶液B中持续搅拌得到溶液C;4将溶液C高速离心,弃上清得沉淀,将沉淀用无水乙醇洗涤得到最终产物。

全文数据:

权利要求:

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