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申请/专利权人：华芯程(杭州)科技有限公司
摘要：本申请提供曲线掩模OPC修正方法、装置、介质、程序产品及终端，通过从原始图像中提取采样点，利用采样点进行初步拟合并生成待优化的拟合区域。随后，根据目标函数对待优化的拟合区域进行多轮迭代优化，最终生成经过OPC修正的曲线掩膜版。相较于现有的曼哈顿OPC修正技术，本申请通过对控制点进行移动的方式对掩膜版进行修正，具有更高的修正自由度。优化后的掩膜边缘形状不再受限于曼哈顿优化法中的若干正交矩形。此外，该方法步骤简单，计算量小，能够有效避免过拟合，节省晶圆材料。因此解决了现有曼哈顿掩膜光学邻近效应修正优化过程中步骤复杂、精度有限以及修正自由度不足的问题。
主权项：1.一种曲线掩模OPC修正方法，其特征在于，包括：获取原始版图；从所述原始版图中提取多个采样点，并对所述多个采样点进行采样点拟合操作以生成待优化拟合区域；基于预设选点策略在所述待优化拟合区域的边界上选取多个控制点；对所述多个控制点执行多轮迭代优化后生成最优拟合区域，所述最优拟合区域为经光学邻近效应修正后的曲线掩模版，其中，对所述多个控制点所执行的多轮迭代优化的过程包括：对所述待优化拟合区域进行仿真模拟以生成第一模拟版图；根据所述第一模拟版图和原始版图之间的差异计算得到当前轮迭代优化中的第一目标函数，并根据所述第一目标函数确定每个控制点的平移优化方向；按照所述平移优化方向将每个控制点进行相应平移优化，并基于平移后的所有控制点进行曲线拟合操作；对拟合得到的新区域进行仿真模拟以生成第二模拟版图；根据第二模拟版图和原始版图之间的差异更新所述第一目标函数为第二目标函数；将所述第二目标函数与预设阈值进行比较；若第二目标函数小于所述预设阈值，则输出所述第二模拟版图作为所述曲线掩模版；否则，重复执行控制点平移优化、拟合区域更新及目标函数更新的操作，直至最新的目标函数小于所述预设阈值，并输出对应的模拟版图作为所述曲线掩模版。
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权利要求：
百度查询： 华芯程(杭州)科技有限公司 曲线掩模OPC修正方法、装置、介质、程序产品及终端
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