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申请/专利权人：安徽聚碳机械设备有限公司
摘要：本实用新型公开了一种用于MPCVD设备的腔内气流场调节装置，涉及金刚石生产技术领域，该方案包括箱体，所述箱体的顶部固定安装有等离子体反应器，所述箱体的内部设有与等离子体反应器相连通的抽气机构，所述等离子体反应器的内底部固定安装有放置机构，所述箱体的内底部固定安装有移动机构，所述移动机构的活动端固定连接有与抽气机构相配合的夹持机构，本实用新型通过设置的抽气机构和放置机构，可以使得等离子体反应器内的部分气流从锥形孔周围流出，使得气流可以集中在托架的周围，加速等离子中物质的交换，提高沉积效率，通过设置的移动机构和夹持机构，可以将夹持在夹持机构上的机械泵移动到靠近箱体箱门处，便于进行维护。
主权项：1.一种用于MPCVD设备的腔内气流场调节装置，包括箱体1，其特征在于：所述箱体1的顶部固定安装有等离子体反应器2，所述箱体1的内部设有与等离子体反应器2相连通的抽气机构3，所述等离子体反应器2的内底部固定安装有放置机构4，所述箱体1的内底部固定安装有移动机构5，所述移动机构5的活动端固定连接有与抽气机构3相配合的夹持机构6；所述抽气机构3包括放置在箱体1内部的机械泵31，所述机械泵31的抽气端固定连接有集中管32，所述集中管32的两端固定互通有第一抽气管33，所述集中管32的外表面固定互通有第二抽气管34，所述第一抽气管33和第二抽气管34均与等离子体反应器2的内部相连通，所述第一抽气管33和第二抽气管34均固定连接有控制阀。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 安徽聚碳机械设备有限公司 一种用于MPCVD设备的腔内气流场调节装置
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