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二维SiP2和h-BN复合结构光电晶体管及制备方法 

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申请/专利权人:山东大学

摘要:一种二维SiP2和h‑BN复合结构光电晶体管及制备方法,该复合结构光电晶体管以二维材料SiP2作为沟道材料,在二维SiP2沟道的底面插入h‑BN,并采用硅作为衬底,SiO2作为栅介质层,对硅施加栅压进而调控暗电流;其制备方法包括以下步骤:1将h‑BN纳米薄膜转移到硅衬底上;2将SiP2纳米薄膜定点转移至已置于硅衬底上的h‑BN纳米薄膜表面;3将硅衬底表面均匀旋涂光刻胶,制备底电极的图形;4对底电极的图形进行定位曝光,然后进行显影,暴露出需要蒸镀电极部分;5制备金属电极。本发明利用h‑BN作为衬底减少SiP2表面的缺陷,降低电荷散射,提高光电流,能够获得高的探测率,实现高灵敏的特性。

主权项:1.一种二维SiP2和h-BN复合结构光电晶体管,其特征是,自下至上包括Si衬底、SiO2栅介质层、h-BN纳米薄膜和SiP2纳米薄膜,SiP2纳米薄膜上设置有金属电极,以二维材料SiP2作为沟道材料,在二维SiP2沟道的底面插入h-BN,并采用硅作为衬底,SiO2作为栅介质层,对硅施加栅压进而调控暗电流。

全文数据:

权利要求:

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