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申请/专利权人:安徽碳索芯材科技有限公司
摘要:本实用新型公开了一种用于MPCVD长晶过程中等离子体及温度调控装置,包括基台和调谐装置以及密封件。所述的基台内嵌有可升降的调谐装置结构,基台下方通过水冷管道进行水循环带走热量;所述的调谐装置包括调谐柱、下方使用电机驱动的连杆。本实用新型在使用时通过电机控制调谐柱的高低,进而改变晶种托盘距离基台的远近来调整托盘上晶种的温度,以达到最优的生长条件,避免减少功率气压,使生长速率保持恒定;同时每个调谐柱可以单独调控,可以微调托盘的平衡度以满足晶种上方的等离子体均匀分布,使托盘内的晶种生长质量均匀。
主权项:1.一种用于MPCVD长晶过程中的等离子体及温度调控装置,其特征在于:包括基台(1),所述基台(1)中间放置晶种托盘(3),所述晶种托盘(3)下方通过调谐机构支撑,所述基台(1)下方带有冷却水循环水管(4),所述基台(1)内部具有冷却水槽,所述冷却水循环水管(4)与冷却水槽相连通,所述冷却水循环水管(4)包括冷却水进水管和出水管,所述基台(1)的下方设置有下腔体基板(7),所述冷却水循环水管(4)和下腔体基板(7)密封连接。
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