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申请/专利权人：艾美柯技术株式会社
摘要：提供一种光照射装置以及光照射方法。高效地形成抗蚀剂图案。光照射装置1具备：光照射单元5，在内部具备光源52，一边在形成于基板100上的抗蚀剂膜的上方移动一边对抗蚀剂膜照射来自光源52的光；以及滤光片单元6，保持选择来自光源52的光的波长的滤光片200，使滤光片200针对光源52与所述抗蚀剂膜之间进行进退。
主权项：1.一种光照射装置，具备：光照射单元，在内部具备光源，一边在形成于基板上的抗蚀剂膜的上方移动一边将来自所述光源的光照射到所述抗蚀剂膜；以及滤光片单元，保持用于选择来自所述光源的光的波长的滤光片，使所述滤光片针对所述光源与所述抗蚀剂膜之间进行进退。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 艾美柯技术株式会社 光照射装置以及光照射方法
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