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申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
摘要：一种光学临近修正方法，包括：在若干拆分版图中获取待修正版图；在待修正版图中获取稀疏图形，稀疏图形的图形密度低于预设密度；获取待修正版图以外的若干拆分版图中拆分图形的参考位置信息；根据参考位置信息在待修正版图中设置初始辅助图形，初始辅助图形位于稀疏图形周围，且初始辅助图形的尺寸小于或等于对应的参考位置处的拆分图形的尺寸；对初始辅助图形进行若干次修正处理以获取辅助图形，辅助图形与待修正版图中的拆分图形构成修正版图，修正版图的模拟曝光图形中具有与辅助图形对应的曝光图形，减少由图形密度不均匀带来的刻蚀偏差的不均匀，提高整个版图的图形密度的均匀性。
主权项：1.一种光学临近修正方法，其特征在于，包括：提供切割版图，所述切割版图包括若干切割图形；将所述切割版图拆分为若干拆分版图，每个拆分版图具有若干拆分图形，所述若干拆分版图中的若干拆分图形用以合并为所述若干切割图形；在若干拆分版图中获取待修正版图；在所述待修正版图中获取稀疏图形，所述稀疏图形的图形密度低于预设密度；获取所述待修正版图以外的若干拆分版图中拆分图形的参考位置信息；根据参考位置信息在待修正版图中设置初始辅助图形，所述初始辅助图形位于所述稀疏图形周围，且所述初始辅助图形的尺寸小于或等于对应的参考位置处的拆分图形的尺寸；对所述初始辅助图形进行若干次修正处理以获取辅助图形，所述辅助图形与所述待修正版图中的拆分图形构成修正版图，所述修正版图的模拟曝光图形中具有与所述辅助图形对应的曝光图形。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光学临近修正方法
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