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申请/专利权人：中国兵器科学研究院宁波分院
摘要：本发明涉及一种工业CT散射校正方法，包括：加工反散射栅；加工的反散射栅采用多个水平设置的圆柱条等间隔排列而成；在探测器前放置反散射栅，获得被检测样品的第一周向DR图像；将探测器前放置的反散射栅向上或向下移动，获得被检测样品的第二周向DR图像；接着对与第一周向DR图像相同位置的反散射栅进行DR扫描，获得第一投影图像，并且对与第二周向DR图像相同位置的反散射栅进行DR扫描，获得第二投影图像；对第一投影图像和第二投影图像进行处理，即计算被检测样品散射线校正后的图像；最后对图像进行CT重建，得到校正后的CT图像。优点在于：可适用于SDD调节的CT系统。
主权项：1.一种工业CT散射校正方法，其特征在于包括如下步骤：步骤1、加工反散射栅；其中加工的反散射栅采用多个水平设置的圆柱条等间隔排列而成，相邻两个圆柱条之间的间隔均为s，每个圆柱条的直径均为d；步骤2、工业CT系统包括依次间隔布置的X射线机、转台和探测器，将被检测样品置于转台上，并在探测器前放置反散射栅，开启X射线机对被检测样品进行周向扫描，获得I幅被检测样品的第一周向DR图像；其中，将第i幅第一周向DR图像中像素点为x,y的像素值记为Aix,y，i＝1、2…I；步骤3、将步骤2中探测器前放置的反散射栅向上或向下移动并采用与步骤2中相同的扫描工艺对被检测样品进行周向扫描，获得I幅被检测样品的第二周向DR图像，其中，将第i幅第二周向DR图像中像素点为x,y的像素值记为Bix,y，i＝1、2…I；Bix,y和Aix,y的扫描角度相同；步骤4、采用相同的扫描工艺对与步骤2中相同位置的反散射栅进行DR扫描，获得第一投影图像D1x,y；采用相同的扫描工艺对与步骤3中相同位置的反散射栅进行DR扫描，获得第二投影图像D2x,y；步骤5、对第一投影图像D1x,y和第二投影图像D2x,y进行处理，提取反散射栅中的间隔区域图像；步骤6、根据步骤5中提取出的反散射栅中的间隔区域图像，计算I幅被检测样品散射线校正后的图像；步骤7、对骤6中计算得到的I幅被检测样品散射线校正后的图像进行CT重建，得到校正后的CT图像。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国兵器科学研究院宁波分院 一种工业CT散射校正方法
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