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申请/专利权人：广东科视光学技术股份有限公司

摘要：本申请涉及曝光机技术领域，尤其涉及一种曝光方法及曝光机。曝光组件在电路基板的第一曝光面进行曝光时，打标组件在电路基板的第二曝光面制作靶标。通过检测组件获取靶标的位置信息，通过对位组件根据靶标的位置信息对电路基板进行对位，以使电路基板与曝光组件之间的相对位置符合预期要求。对电路基板对位后，对电路基板中第二曝光面进行曝光。在对电路基板的第一曝光面进行曝光时，在电路基板的第二曝光面制作靶标，进而使靶标作为对电路基板的第二曝光面曝光时联系第一曝光面中电路图形的参考标记，从而使电路板两面的电路之间的相对位置关系符合要求要求。如此，提高电路板两面电路之间的相对位置精度。

主权项：1.一种曝光方法，其特征在于，包括如下步骤：控制曝光组件在标定板的第一标定面制作第一标记，控制打标组件在所述标定板的第二标定面制作第二标记；获取所述第一标记与所述第二标记的图像信息；根据所述图像信息确定所述第一标记与所述第二标记的第一相对位置数据；根据所述第一相对位置数据计算第一补偿值；验证所述第一补偿值是否符合预设范围；若所述第一补偿值不符合预设范围，则根据所述第一补偿值校正所述打标组件制作标记的位置；控制所述曝光组件在标定板的第一标定面制作第三标记，控制所述打标组件在所述标定板的第二标定面制作第四标记；获取所述第三标记与所述第四标记的图像信息；根据所述图像信息确定所述第三标记与所述第四标记的第二相对位置数据；根据所述第二相对位置数据计算第二补偿值；验证所述第二补偿值是否符合预设范围；控制曝光组件对电路基板的第一曝光面曝光，控制所述打标组件在所述电路基板的第二曝光面根据所述第二补偿值制作靶标；获取所述靶标的位置信息；根据所述靶标的位置信息参照预设位置数据对所述电路基板进行对位；对位完成后，控制曝光组件对所述第二曝光面进行曝光；其中，验证所述第一补偿值是否符合预设范围包括如下步骤：控制所述曝光组件在所述第一标定面制作第五标记，控制所述打标组件在所述第二标定面制作第六标记；获取所述第五标记与所述第六标记的图像信息；根据所述图像信息确定所述第五标记与所述第六标记的第三相对位置数据；判断所述第三相对位置数据是否符合预期要求；若所述第三相对位置数据符合预期要求，则说明所述第一补偿值符合预设范围；若所述第三相对位置数据不符合预期要求，则说明所述第一补偿值不符合预设范围。

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