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申请/专利权人：尼康SLM方案股份公司

摘要：描述了一种用于校准辐照系统10的方法，该辐照系统使用于生产三维工件的设备100中。该方法包括步骤i：将校准平面30与辐照系统10的光学单元16之间的、在垂直于校准平面30的z方向上的距离设置为第一距离z1。在步骤ii中，在将校准平面30与光学单元16之间的距离保持在第一距离z1的同时，在光学单元16的扫描镜22布置在第一角度基本位置的情况下，在校准平面30内的第一x‑y区域a1中辐照第一校准图案p1,1。在光学单元16的扫描镜22布置在第二角度基本位置的情况下，在校准平面30内的第二x‑y区域a2中辐照第二校准图案p2,1；处于第二角度基本位置的扫描镜22相对于第一角度基本位置至少枢转±1°。在步骤iii中，将校准平面30与光学单元16之间的、在z方向上的距离设置为第二距离z2，且第二距离与第一距离z1不同。在步骤iv中，在将校准平面30与光学单元16之间的距离保持在第二距离z2的同时，在光学单元16的扫描镜22布置在第一角度基本位置的情况下，在第一x‑y区域a1中辐照第三校准图案p1,2；在光学单元16的扫描镜22布置在第二角度基本位置的情况下，在第二x‑y区域a2中辐照第四校准图案p2,2。在步骤v中，对第一校准图案、第二校准图案、第三校准图案以及第四校准图案p1,1、p2,1、p1,2、p2,2进行评估，以根据校准平面30内的x‑y位置来确定辐射束14在z方向上的焦点位置。在步骤vi中，基于辐射束14的所确定的焦点位置对辐照系统10进行校准。

主权项：1.一种用于校准辐照系统10的方法，所述辐照系统使用于通过用由所述辐照系统10发射的辐射束14辐照原材料粉末层以生产三维工件的设备100中，所述方法包括以下步骤：i将所述校准平面30与所述辐照系统10的光学单元16之间的、在垂直于校准平面30的z方向上的距离设置为第一距离z1；ii在将所述校准平面30与所述光学单元16之间的所述距离保持在所述第一距离z1的同时，在所述光学单元16的扫描镜22布置在第一角度基本位置的情况下，在所述校准平面30内的第一x-y区域a1中辐照第一校准图案p1,1；在所述光学单元16的所述扫描镜22布置在第二角度基本位置的情况下，在所述校准平面30内的第二x-y区域a2中辐照第二校准图案p2,1；处于所述第二角度基本位置的所述扫描镜22相对于所述第一角度基本位置至少枢转±1°；iii将所述校准平面30与所述辐照系统10的所述光学单元16之间的、在垂直于所述校准平面30的所述z方向上的距离设置为第二距离z2，且所述第二距离z2与所述第一距离z1不同；iv在将所述校准平面30与所述光学单元16之间的所述距离保持在所述第二距离z2的同时，在所述光学单元16的所述扫描镜22布置在所述第一角度基本位置的情况下，在所述校准平面30内的所述第一x-y区域a1中辐照第三校准图案p1,2；在所述光学单元16的所述扫描镜22布置在第二角度基本位置的情况下，在所述校准平面30内的所述第二x-y区域a2中辐照第四校准图案p2,2；在所述第二角度基本位置的所述扫描镜22相对于所述第一角度基本位置至少枢转±1°；v对所述第一校准图案、所述第二校准图案、所述第三校准图案以及所述第四校准图案p1,1、p2,1、p1,2、p2,2进行评估，以根据所述校准平面30内的x-y位置来确定所述辐射束14在垂直于所述校准平面30的所述z方向上的焦点位置；以及vi基于辐射束14的所确定的焦点位置对所述辐照系统10进行校准。

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百度查询： 尼康SLM方案股份公司 用于校准辐照系统的方法和装置、用于生产三维工件的设备和计算机程序产品