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申请/专利权人：浙江芯科半导体有限公司
摘要：本发明涉及碳化硅晶片技术领域，具体公开了一种基于腐蚀法的碳化硅晶片加工用腐蚀化设备，包括腐蚀箱，还包括有：安装板，所述安装板的底部两侧固定连接有插接板，所述腐蚀箱的外壁顶部开设有插接槽，所述插接板与插接槽为对应滑动设置；本发明，通过转动加热机构的作用，可将安装完成后的碳化硅晶片完全浸泡在腐蚀液中，增加了碳化硅晶片与腐蚀液的接触面积，同时可使碳化硅晶片进行转动，充分地使碳化硅晶片与腐蚀液进行接触，相较于腐蚀液喷淋对碳化硅晶片外壁进行腐蚀加工的方式，降低了工作人员对碳化硅晶片进行腐蚀加工的加工时间，从而提升了工作人员对碳化硅晶片进行腐蚀加工的加工效率。
主权项：1.一种基于腐蚀法的碳化硅晶片加工用腐蚀化设备，其特征在于，包括腐蚀箱1，还包括有：安装板2，所述安装板2的底部两侧固定连接有插接板201，所述腐蚀箱1的外壁顶部开设有插接槽，所述插接板201与插接槽为对应滑动设置；转动加热机构，用于对碳化硅晶片进行转动与腐蚀液进行接触加工，所述转动加热机构位于安装板2上；遮挡机构和下液管4，用于对下液管4进行遮挡，所述遮挡机构位于安装板2的底部。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江芯科半导体有限公司 一种基于腐蚀法的碳化硅晶片加工用腐蚀化设备
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