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申请/专利权人：苏州中特微电子科技有限公司
摘要：本发明涉及掩膜曝光光刻技术领域，提供了一种自动曝光机内半自动更换掩膜版的装置，包括：工作台、升降气缸、支撑台、伸缩轨道、定位保护托盘、顶升机构、掩膜版架，所述升降气缸位于工作台上，所述支撑台安装在升降气缸上，所述伸缩轨道安装在支撑台上，所述顶升机构安装在工作台的两个外壳之间，所述掩膜版架安装在工作台上；本发明通过伸缩机构将定位保护托盘移动到顶升机构上，大大提高了空间利用率，且不妨碍工作台工作，通过手动拉动四个直角夹块将掩膜版固定在定位保护托盘上，增加了安装过程的稳定性，通过设置定位套筒增加了固定掩膜版的稳定性和机动性。
主权项：1.一种自动曝光机内半自动更换掩膜版的装置，包括：工作台1、升降气缸2、支撑台3、伸缩轨道4、定位保护托盘5、顶升机构6、掩膜版架7，其特征在于，所述升降气缸2位于工作台1上，所述支撑台3安装在升降气缸2上，所述伸缩轨道4安装在支撑台3上，所述顶升机构6安装在工作台1的两个外壳之间，所述掩膜版架7安装在工作台1上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州中特微电子科技有限公司 一种自动曝光机内半自动更换掩膜版的装置
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