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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2020-08-04
公开（公告）日：2024-08-30
公开（公告）号：CN118567194A
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：一种用于准直宽带辐射的组件，组件包括：凸折射单透镜，该凸折射单透镜具有用于将宽带辐射耦合到透镜的第一球形表面和用于将宽带辐射耦合出透镜的第二球形表面，其中第一球形表面和第二球形表面具有共同中心；以及安装部，用于在多个接触点处保持凸折射单透镜，该多个接触点的形心与共同中心重合。
专利权项：1.一种用于将宽带辐射耦合到位置的组件，所述组件包括：第一透镜，用于准直所述宽带辐射；第二消色差双合透镜，用于将经准直的宽带辐射耦合到位置；其中，所述第一透镜具有在所述宽带辐射中引起色散的第一色散性质；并且其中，所述第二透镜具有与所述第一透镜的色散性质耦合的第二色散性质，并且所述第二色散性质被配置为校正由第一透镜引起的色散的至少一部分。
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于准直宽带辐射的组件
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