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申请/专利权人：精工爱普生株式会社

摘要：提供光源装置和投影仪，能够提高光利用效率。光源装置具备：射出第1光束的第1光源部；射出第2光束的第2光源部；合成第1光束与第2光束的合成元件；将第1光束与第2光束的光束宽度之差调整得较小的光束宽度调整元件；第1会聚光学系统；从第1会聚光学系统射出的光入射的第1扩散元件。光束宽度调整元件具备有限的焦距，经由光束宽度调整元件、合成元件及第1会聚光学系统的第1光束会聚于第1会聚位置，经由合成元件及第1会聚光学系统的第2光束会聚于第2会聚位置。光束宽度调整元件及第1会聚光学系统使第1光会聚以使第1光束形成于第1扩散元件的第1光源像与第2光束形成于第1扩散元件的第2光源像的纵横比和尺寸彼此接近。

主权项：1.一种光源装置，其特征在于，具备：第1光源部，其射出包含从第1发光区域发出的第1色光的第1光束；第2光源部，其射出包含第2色光的第2光束，该第2色光从平面形状与所述第1发光区域不同的第2发光区域发出，并且波段与所述第1色光不同；合成元件，其对所述第1光束与所述第2光束进行合成；光束宽度调整元件，其配置在所述合成元件与所述第1光源部之间，以减小所述第1光束的光束宽度与所述第2光束的光束宽度之差的方式进行调整；第1会聚光学系统，其对从所述合成元件射出的光进行会聚；第1扩散元件，从所述第1会聚光学系统射出的所述光入射到该第1扩散元件；第2会聚光学系统，从所述第1扩散元件射出的光入射到该第2会聚光学系统；以及均匀化照明光学系统，从所述第2会聚光学系统射出的光入射到该均匀化照明光学系统，所述光束宽度调整元件具备有限的焦距，从所述第1光源部射出并经由所述光束宽度调整元件、所述合成元件以及所述第1会聚光学系统后的所述第1光束被会聚于所述第1会聚光学系统的光轴方向上的第1会聚位置，从所述第2光源部射出并经由所述合成元件以及所述第1会聚光学系统后的所述第2光束被会聚于所述光轴方向上的与所述第1会聚位置不同的第2会聚位置，所述光束宽度调整元件以及所述第1会聚光学系统以使所述第1光束在所述第1扩散元件的光入射面形成的第1光源像的纵横比和大小接近所述第2光束在所述第1扩散元件的光入射面形成的第2光源像的纵横比和大小的方式，对所述第1光进行会聚。

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