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申请/专利权人：上海至纯半导体设备有限公司
摘要：本实用新型公开了一种新的超高温氧化炉进气装置，其特征在于：包括装置本体，装置本体包括加热基准面、保温桶基座面、石英外管、承载晶圆工具和加热器，加热基准面和保温桶基座面呈列状等距方式固定在石英外管外侧且保温桶基座面位于加热基准面下方，承载晶圆工具安装在石英外管内部顶端；石英外管内侧设有第一通气管，第一通气管顶部设有集气罩，集气罩位于承载晶圆工具顶部，石英外管底部设有石英板，石英板底部设有金属板，金属板底部安装有第二通气管，第二通气管顶部与第一通气管底部相连接，石英外管底部右侧设有内部气体排出装置。该种装置可以配和集气罩可以使气体从工艺管顶部均匀洒下，极大改善晶圆生长均匀性的问题。
主权项：1.一种新的超高温氧化炉进气装置，其特征在于：包括装置本体1，所述装置本体1包括加热基准面2、保温桶基座面3、石英外管4、承载晶圆工具5和加热器17，所述加热基准面2和保温桶基座面3呈列状等距方式固定在石英外管4外侧且保温桶基座面3位于加热基准面2下方，所述承载晶圆工具5安装在石英外管4内部顶端；所述石英外管4内侧设有第一通气管7，所述第一通气管7顶部设有集气罩6，所述集气罩6位于承载晶圆工具5顶部，所述石英外管4底部设有石英板15，所述石英板15底部设有金属板16，所述金属板16底部安装有第二通气管12，所述第二通气管12顶部与第一通气管7底部相连接，所述石英外管4底部右侧设有内部气体排出装置14。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海至纯半导体设备有限公司 一种新的超高温氧化炉进气装置
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